高超
,
苏芳臣
,
相颖杰
,
孙权
,
陈建钧
机械工程材料
doi:10.11973/jxgccl201512004
采用化学气相沉积(CVD)法制备了硅质量分数为6．5％的硅钢，利用扫描电镜、能谱仪和自主设计研发的三点压弯机研究了反应温度、气氛含氧量和 SiCl4含量对硅钢脆性的影响.结果表明：硅钢的晶粒尺寸随反应温度的升高而长大，硅钢的脆性随着晶粒尺寸的增加而增大；气氛含氧量在100 mg·kg－1时所制备的硅钢产生了晶界氧化现象，使硅钢脆性增加；SiCl4含量较大时(体积分数35％)所制备的硅钢产生了 Kirkendall 空洞，导致其脆性加剧.
关键词:
CVD 法
,
硅钢
,
脆性
,
晶界氧化
